Dans le cadre de ces nombreux projets de recherche, l’IEMN travaille depuis 30 ans sur l’élaboration des composants micro/nano-électroniques à base du Silicium : MEMS, NEMS, MOEMS. La fabrication de ces types de composants implique l'utilisation de la technique de gravure profonde par plasma fluoré, comme par exemple, le procédé Bosch, utilisant les gaz SF6 et C4F8.\n\nL’objectif de cette acquisition est de permettre de suivre en temps réel la composition chimique des gaz extraits après un procédé de gravure, afin de :\n• Suivre l’évolution des espèces chimiques résiduelles\n• Qualifié et quantifié les espèces rejetées dans l’atmosphère\n• Optimiser les paramètres de gravure (vis-à-vis le rendement des gaz utilisés)\n• Détecter d’éventuels dysfonctionnements (polluants, fuites, dérives)\n

Publié le : 08/02/2026